可實現(xiàn)高溫法與化學法相結合的提純工藝;
電阻爐采用頂立科技專屬超高溫、大電流引電技術,能在2600℃條件下長時間穩(wěn)定使用;
電阻爐可采用多溫區(qū)獨立控溫,溫度均勻性好;
采用特殊的高溫紅外測量技術,控溫準確,誤差?。?/span>
采用感應加熱形式,最高溫度可達3000℃,適用于高溫法提純;
適于工藝氣氛:真空/N2/Ar/CH4/H2/工藝氣氛。
臥式真空高溫純化爐 | |||||
參數(shù)\型號 | HPF-111115 | HPF-131320 | HPF-161635 | HPF-161670 | HPF-201840 |
工作區(qū)尺寸 W×H×L(mm) | 1100×1100×1500 | 1300×1300×2000 | 1600×1600×3500 | 1600×1600×7000 | 2000×1800×4000 |
最高溫度(℃) | 2500 | ||||
溫度均勻性(℃) | ±5~±20 | ||||
極限真空度(Pa) | 1-100 | ||||
壓升率(Pa/h) | 0.67 |
立式真空高溫純化爐 | |||||||
參數(shù)\型號 | VPF-0305 | VPF-0608 | VPF-0812 | VPF-1216 | VPF-1320 | VPF-1520 | VPF-161636 |
工作區(qū)尺寸 φ×H(mm) | 300×500 | 600×800 | 800×1200 | 1200×1600 | 1300×2000 | 1500×2000 | 1600×1600×3600 |
最高溫度(℃) | 2500-3000 | 2500 | |||||
溫度均勻性(℃) | ±5~±20 | ||||||
極限真空度(Pa) | 1-100 | ||||||
壓升率(Pa/h) | 0.67 |
以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進行調(diào)整,不作為驗收依據(jù),具體以技術方案和協(xié)議為準。